晶圓接觸角測量儀是一款的晶圓全自動接觸角測量儀器。該儀器包括Theta Flow光學接觸角測量儀主機，可配置四個具有軟件控制、可水平移動、可拋棄滴液頭的自動滴液器，以及帶自動旋轉的全自動XYZ樣品臺。

晶圓上的接觸角測量對于評估這些材料的潤濕性和表面特性至關重要，這些材料廣泛應用于電子制造。通過評估液滴與晶片表面接觸的角度，研究人員可以深入了解硅的表面能和粘附性能。這些信息對于優(yōu)化半導體制造中的涂層、光刻和鍵合等工藝至關重要。了解接觸角有助于確保晶片與生產(chǎn)過程中使用的各種材料之間的預期相互作用，最終提高電子設備的性能和可靠性。

晶圓接觸角測量儀應用

• 研究表面清潔度

接觸角測量可以評估晶圓的清潔度，從而來評估表面污染物和殘留物的去除情況。

• 確定表面自由能

通過測量接觸角，可以推斷出表面自由能，這對于理解其他材料如何與晶圓相互作用至關重要。

• 了解粘附性能

接觸角有助于確定應用于晶圓的涂層和薄膜的粘附性能。

• 研究親水性/疏水性

測量接觸角可以確定晶圓表面是親水還是疏水，從而影響光刻和蝕刻等工藝。

• 用于質(zhì)量控制

定期的接觸角測量可以作為質(zhì)量控制過程的一部分，以確保晶圓加工和處理的一致性。

支持晶圓接觸角測量的軟件功能

• 批量模式，用于對一排多個晶圓進行快速測量。

• 標準座滴法，可進行更深入的分析。

晶圓自動旋轉臺

Theta Wafer晶圓樣品臺是一種由軟件控制的電動平臺，用于旋轉晶圓，以實現(xiàn)直徑高達12英寸晶圓的接觸角自動定位測量。

Theta Wafer晶圓樣品臺包括旋轉臺（T340R）和晶圓臺面（T340RW）。晶圓臺面的插銷有助于晶圓的高精度對準和定位。定位銷還有助于在測量過程中將晶圓保持在適當?shù)奈恢谩榱诉M一步固定晶圓，還可以通過內(nèi)置的真空連接口連接到真空泵。

Theta Wafer晶圓樣品臺連接到自動XYZ樣品臺，可以自動定位直徑高達12英寸的晶圓。為了最大限度地提高旋轉臺的性能，建議將其與四個可拋棄滴液頭滴液器結合使用。這將允許自動進行表面自由能測量，或者在只使用水的情況下增加連續(xù)的測量次數(shù)。

產(chǎn)品參數(shù)

樣品規(guī)格

其他