Langmuir膜分析儀

1. 產品簡介

   KSV NIMA為瑞典百歐林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要經營方向為單分子層薄膜的構建與表征工具。Langmuir膜分析儀為KSV NIMA自主研發的一款單分子層膜的制備和表征設備，適用于制備、改性和研究Langmuir膜。

   常規的Langmuir膜分析儀包含六種型號的槽體：超小型、小型、中型、大型、液-液、高壓縮比型。

2. 工作原理

   位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動，具有較強的流動性，易于控制其堆積密度，研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池（稱頂槽）中的水亞相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，單分子層可以被壓縮。表面壓力即堆積密度可以通過的壓力傳感器進行控制。

   在進行典型的等溫壓縮測試時，單分子層先從二維的氣相(G)轉變到液相(L)zui后形成有序的固相(S)。在氣相中，分子間的相互作用力比較弱；當表面積減小，分子間的堆積更為緊密，并開始發生相互作用；在固相時，分子的堆積是有序的，導致表面壓迅速增大。當表面壓達到zui大值即塌縮點后，單分子層的堆積不再可控。

圖1 單分子層膜狀態受表面壓力增加的影響

3. 技術參數

    常規的KSV NIMA Langmuir槽有以下幾種尺寸：容積比小型小，面積比小型大的特小型槽、小型槽、中型槽和大型槽。特小型槽的體積zui小，但是表面積比小型槽大。三種較小的槽體采用相同的框架，可隨時調整不同尺寸的槽體。液-液槽或高壓縮槽采用更大的框架，但同樣適用于較小型槽體。不同型號的槽體如下所述。

3.1 超小型Langmuir膜分析儀（KN 1001）

1. 槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2. 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3. 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試
4. 槽體表面積：150 cm²
5. 槽體內部尺寸：300 x 50 x 1.2 mm（長 x 寬 x高）
6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min
7. 滑障速度精度: 0.1  mm/min
8. 測量范圍：0-150 mN/m
9. 天平zui大負荷: 1 g
10. 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11. 傳感精度: 4 μN/m
12. 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
13. Langmuir測試槽亞相容積：18 ml
14. 電源： 100...240 VAC
15. 頻率： 50...60 Hz

圖2 超小型Langmuir膜分析儀（KN 1001）

3.2 小型Langmuir膜分析儀（KN 1002）

1. 槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2. 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3. 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試
4. 槽體表面積： 98 cm²
5. 槽體內部尺寸：195 x 50 x 4 mm（長 x 寬 x高）
6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min
7. 滑障速度精度: 0.1  mm/min
8. 測量范圍：0-150 mN/m
9. 天平zui大負荷: 1 g
10. 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11. 傳感精度: 4 μN/m
12. 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
13. Langmuir測試槽亞相容積：39 ml
14. 電源： 100...240 VAC
15. 頻率： 50...60 Hz

圖3 小型Langmuir膜分析儀（KN 1002）

3.3 中型Langmuir膜分析儀（KN 1003）

1. 槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2. 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3. 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試
4. 槽體表面積： 273 cm²
5. 槽體內部尺寸：364 x 75 x 4 mm（長 x 寬 x高）
6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min
7. 滑障速度精度: 0.1  mm/min
8. 測量范圍：0-150 mN/m
9. 天平zui大負荷: 1 g
10. 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11. 傳感精度: 4 μN/m
12. 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
13. Langmuir測試槽亞相容積：109 ml
14. 電源： 100...240 VAC
15. 頻率： 50...60 Hz

圖4 中型Langmuir膜分析儀（KN 1003）

3.4大型Langmuir膜分析儀（KN 1006）

1. 槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2. 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3. 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試
4. 槽體表面積： 841 cm²
5. 槽體內部尺寸：580 x 145 x 4 mm（長 x 寬 x高）
6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min
7. 滑障速度精度: 0.1  mm/min
8. 測量范圍：0-150 mN/m
9. 天平zui大負荷: 1 g
10. 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11. 傳感精度: 4 μN/m
12. 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
13. Langmuir測試槽亞相容積：336 ml
14. 電源： 100...240 VAC
15. 頻率： 50...60 Hz

圖5 大型Langmuir膜分析儀（KN 1006）

3.5 液-液Langmuir膜分析儀（KN 1004）

1. 槽體材質：固體燒結，無孔POM材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2. 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3. 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試
4. 上部槽體表面積：580 cm²
5. 上部亞相體積：406 ml
6. 下部槽體表面積：423 cm²
7. 下部亞相體積：212 ml
8. 槽體尺寸：908 x 227 x 293（長 x 寬 x高）
9. 上部槽體內部尺寸：784 x 74 x 7 mm³（長 x 寬 x高）
10. 下部槽體內部尺寸：784 x 54 x 5 mm³（長 x 寬 x高）
11. 滑障速度: 0.01-270 mm/min
12. 滑障速度精度: 0.1  mm/min
13. 滑障控位精度: 0.01  mm
14. 測量范圍：0-150 mN/m
15. 天平zui大負荷: 1 g
16. 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
17. 傳感精度: 4 μN/m
18. 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
19. 電源： 100...240 VAC
20. 頻率： 50...60 Hz

圖6 液-液Langmuir膜分析儀（KN 1004）

3.6 高壓縮比Langmuir膜分析儀（KN 1005）

1. 槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2. 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3. 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試
4. 槽體表面積： 587 cm²
5. 槽體內部尺寸：782 x 75 x 5 mm（長 x 寬 x高）
6. 滑障速度: 0.1-270 mm/min
7. 滑障速度精度: 0.1  mm/min
8. 測量范圍：0-150 mN/m
9. 天平zui大負荷: 1 g
10. 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11. 傳感精度: 4 μN/m
12. 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
13. Langmuir測試槽亞相容積：293 ml
14. 電源： 100...240 VAC
15. 頻率： 50...60 Hz

圖7 高壓縮比Langmuir膜分析儀（KN 1005）

4. 產品優勢及亮點

4.1 產品優勢

1. 專為極度精確測試設計的超敏感表面張力傳感器。鉑金屬板，鉑金屬棒及紙板都可用作探針以滿足不同的需求。
2. 開放性的設計便于槽體在框架上的放置及不同槽體的快速更換，同時便于清洗槽體表面。
3. 當需要清潔或更換新槽體時，槽體在框架上的拆卸/放置極其方便。
4. Langmuir槽體是由便于清潔、可靠耐久的整塊純聚四氟乙烯構成，其*的設計能夠防止槽體發生泄漏，同時避免了使用膠水及其他封裝材料造成的潛在污染。
5. 滑障由親水性的迭爾林聚甲醛樹酯制成，可提高單分子層的穩定性?？筛鶕蛻粜枰峁┦杷缘木鬯姆蚁嚎s滑障。穩健的金屬構架能夠防止滑障隨著時間的推移而變形。
6. 對稱滑障壓縮為標準的均勻壓縮方法，但任意儀器均可實現單一滑障壓縮。
7. 通過外部循環水浴對鋁制底板進行加熱/冷卻，以控制亞相的溫度（水浴為分開銷售）。

8.      通過調整框架撐腳，可快速而準確地校準槽體水平。當需要放置顯微鏡時，框架撐腳也可很容易地從槽體上拆除。

4.2 產品亮點

4.2.1 聯用或相關分析技術

本產品可與界面紅外反射吸收光譜儀(PM-IRRAS)，布魯斯特角顯微鏡(BAM)，界面剪切流變儀（ISR），熒光顯微鏡，X射線等光學表征技術聯用或對樣品進行后續分析。具體如：

1. 紅外反射吸收光譜(KSV NIMA PM-IRRAS)
2. 石英晶體微天平(Q-Sense QCM-D)
3. 表面等離子共振儀
4. 電導率測量儀
5. 紫外可見吸收光譜儀
6. 原子力顯微鏡
7. X射線反射器
8. 透射電子顯微鏡
9. 橢圓偏振儀
10. X射線光電子能譜儀等

4.2.2 本公司可提供聯用儀器簡介

1. 界面紅外反射吸收光譜儀（PM-IRRAS）

帶極化模塊的界面紅外反射吸收光譜儀主要用來決定分子的取向和化學組成。

  2. 布魯斯特角顯微鏡（BAM）

可進行薄膜的均一性、相行為和形貌的單分子層成像和光學觀測。

  3.  表面電位測量儀（SPOT）

使用無損振蕩板式電容技術來監測薄膜的電位變化，從而對單分子層的電學性質進行表征。提供堆積密度和取向等信息，可對任何Langmuir等溫測試進行補充。

  4.  界面剪切流變儀（ISR）

這種*的剪切流變儀可以測量界面處的粘彈性。適用于氣-液或油-水的研究，在控制表面壓的同時，可對粘彈性進行分析。

5. 產品應用

5.1 應用范圍

• 生物膜及生物分子間的相互作用

• 細胞膜模型（如：蛋白質與離子的相互作用）
• 構象變化及反應
• 藥物傳輸及行為

• 有機及無機涂料

• 具有光學、電學及結構特性的功能性材料
• 新型涂料:納米管、納米線、石墨烯等

• 表面反應

• 聚合反應
• 免疫反應、酶-底物反應
• 生物傳感器、表面固定催化劑
• 表面吸附和脫附

• 表面活性劑及膠體

• 配方科學
• 膠體穩定性
• 乳化、分散、泡沫穩定性

• 薄膜的流變性

• 擴張流變
• 界面剪切流變（與KSV NIMA ISR 聯用）

5.2 客戶發表成果（部分）

1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)
2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)
3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)
4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011,  5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)
5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)
6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)
7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)

6.

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